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1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Siteplutao.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
IdentificadorJ8LNKAN8RW/34BESM6
Repositóriodpi.inpe.br/plutao@80/2008/12.04.12.38.01   (acesso restrito)
Última Atualização2015:04.17.19.42.36 (UTC) administrator
Repositório de Metadadosdpi.inpe.br/plutao@80/2008/12.04.12.38.02
Última Atualização dos Metadados2021:03.04.02.45.36 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE--PRE/
DOI10.1109/TPS.2008.2004229
ISSN0093-3813
Rótulolattes: 7698697775899601 1 OliveiraUedRosDiaBab:2008:&lImIo
Chave de CitaçãoOliveiraUedRosDiaBab:2008:PlImIo
TítuloPlasma Immersion Ion Implantation With Lithium Atoms
Ano2008
MêsOct.
Data de Acesso06 maio 2024
Tipo de Trabalhojournal article
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho424 KiB
2. Contextualização
Autor1 Oliveira, Rogério de Moraes
2 Ueda, Mário
3 Rossi, José Osvaldo
4 Diaz, Beatriz
5 Baba, Koumei
Grupo1 LAP-CTE-INPE-MCT-BR
2 LAP-CTE-INPE-MCT-BR
3 LAP-CTE-INPE-MCT-BR
4 LAS-CTE-INPE-MCT-BR
Afiliação1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
5 Industrial Technology Center of Nagasaki
Endereço de e-Mail do Autor1 rogerio@plasma.inpe.br
2 ueda@plasma.inpe.br
3 rossi@plasma.inpe.br
4 beatriz@las.inpe.br
Endereço de e-Mailrogerio@plasma.inpe.br
RevistaIEEE Transactions on Plasma Science
Volume36
Número5
Páginas2572-2576
Nota SecundáriaA_ENGENHARIAS_II A_ENGENHARIAS_III A_INTERDISCIPLINAR B_ASTRONOMIA_/_FÍSICA
Histórico (UTC)2008-12-04 16:12:42 :: lattes -> simone ::
2008-12-17 16:29:37 :: simone -> administrator ::
2010-05-12 02:52:21 :: administrator -> simone ::
2010-07-07 18:38:53 :: simone -> marciana ::
2011-05-24 00:17:10 :: marciana -> administrator :: 2008
2021-03-04 02:45:36 :: administrator -> marciana :: 2008
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Tipo de Versãopublisher
Palavras-Chavelithium
ion implantation
ResumoA new method was developed to produce lithium plasma for plasma immersion ion implantation. Initially, an argon glow discharge with operation pressure ranging from 2 × 10−1 to 1 mbar is generated by negatively polarizing an electrode from −400 to −1500 V. Small pieces of metallic lithium that are 99.9% pure fill the top of a conic crucible, with a depth of 2 cm, in electric contact with the electrode. Argon ions from the plasma are used to bombard this target, where heat is created by the momentum transfer from the impacting ions to the crucible. By controlling the operation pressure and the electrode voltage polarization, it is possible to easily heat the crucible to temperatures above the lithium melting point (180 ◦C), causing its evaporation. Lithium atoms are then ionized, mainly due to collisions, with argon ions moving toward the crucible. Double Langmuir probe measurements indicated variation in the density of the discharge from 4 × 109 cm−3 to 1010 cm−3 after lithium evaporation. Silicon wafer pieces immersed in this mixed plasma were submitted to repetitive negative high-voltage pulses (3 kV/6 μs/2.5 kHz) to accelerate plasma ions. High strain in the treated layers was measured by high-resolution X-ray diffraction. Photoluminescence intensity increased after annealing. X-ray photoelectron spectrometry measurement revealed lithium implantation in silicon with an atomic concentration of 78% on the top surface and a penetration depth of about 75 nm.
ÁreaFISPLASMA
Arranjo 1urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAS > Plasma Immersion Ion...
Arranjo 2urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > Plasma Immersion Ion...
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4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
Grupo de Usuárioslattes
simone
administrator
marciana
Grupo de Leitoresadministrator
marciana
Visibilidadeshown
Política de Arquivamentodenypublisher allowfinaldraft
Permissão de Leituradeny from all and allow from 150.163
Permissão de Atualizaçãonão transferida
5. Fontes relacionadas
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ESR3H2
8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
Lista de Itens Citandosid.inpe.br/bibdigital/2013/09.24.19.30 1
sid.inpe.br/bibdigital/2013/09.25.21.49 1
URL (dados não confiáveis)http://ieeexplore.ieee.org
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES.
Acervo Hospedeirodpi.inpe.br/plutao@80/2008/08.19.15.01
6. Notas
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel format isbn lineage mark mirrorrepository nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate session shorttitle sponsor subject targetfile tertiarymark tertiarytype
7. Controle da descrição
e-Mail (login)marciana
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